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本发明提供了一种可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩制作方法，其步骤包括：提供一光罩，其中此光罩中具有一中央区域及一围绕该中央区域的外围区域；覆盖一阻剂层于中央区域与外围区域上；提供至少一预定图案；以及施行一电子束直写程序，将上述预定图案直...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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