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一种用于形成一复合金属间介电结构的方法系加以提供。一起始金属间介电结构系加以提供，且其系包含一第一介电层以及二导线，而该二导线乃位于该第一介电层之中，接着，该第一介电层在该二导线间的部分系加以移除，以形成一沟渠，而该沟渠则被一第二介电材质所...
该专利属于因芬尼昂技术股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过因芬尼昂技术股份公司授权不得商用。

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