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本发明提供一种化学－机械抛光系统，包括研磨剂、载体及硼酸或其共轭碱，其中硼酸及共轭碱不同时以作为ｐＨ缓冲剂的足够量存在于抛光系统中，或水可溶含硼化合物或其盐，所述含硼化合物不是硼酸；及提供一种使用该化学－机械抛光系统使基材抛光的方法。...
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