下载形成低温多晶硅薄膜晶体管的方法的技术资料

文档序号:3205176

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种形成低温多晶硅薄膜晶体管的方法,该方法至少包括:    形成一多晶硅层于该衬底上;    形成一栅极氧化层于该多晶硅层上;    图案化该栅极氧化层与该多晶硅层,其利用光刻与蚀刻工艺完成;    形成一栅极于该栅极氧化层之上;以及   ...
该专利属于友达光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。