下载磁阻设备的制造方法的技术资料

文档序号:3204940

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一种改进在磁存储器单元(至少20,80)的至少一个组成层(至少21-25)内〈111〉晶体结构生长的方法。所述方法包括下列步骤,以足够高的离子能量水平施用所述至少一个组成层,以使得至少一个组成层的排列达到所述〈111〉晶体结构的高的质量等级...
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