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磁阻设备的制造方法技术
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文档序号:3204940
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一种改进在磁存储器单元(至少20,80)的至少一个组成层(至少21-25)内〈111〉晶体结构生长的方法。所述方法包括下列步骤,以足够高的离子能量水平施用所述至少一个组成层,以使得至少一个组成层的排列达到所述〈111〉晶体结构的高的质量等级...
该专利属于惠普开发有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过惠普开发有限公司授权不得商用。
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