下载抗蚀剂图案及配线图案的形成方法、半导体装置的制造法的技术资料

文档序号:3204858

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本发明提供一种可以生产性良好地形成抗蚀剂图案的方法。其解决方法是,将设置在含有可以将光能转换成热能的光热转换材料的基体材料(5)上的含有抗蚀剂材料的抗蚀剂层(6)和被处理材料(1)对置,在基体材料(5)的所定区域内照射光,使与所定区域相应的...
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