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本发明是关于一种多区域垂直配向（Ｍｕｌｔｉ　　Ｄｏｍａｉｎ　　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）薄膜晶体管阵列基板的制造方法，包括以下步骤：首先提供一基板；接着于该基板上形成复数个开关元件；之后于该基板上形成一覆盖该开关元件的介电层，...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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