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晶体管和使用了晶体管的半导体存储器制造技术
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文档序号:3204608
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在晶体管中设置:设置了具有相向的一对侧面(13b、13b)的凸部13a的p型半导体衬底(12)、栅绝缘膜(15c)、一对的n型源-漏区(BL1、BL2)、隧道绝缘膜(15a)、一对浮置栅(FG1、FG2)、内部多晶绝缘膜和控制栅(CG)。使...
该专利属于伊诺太科株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过伊诺太科株式会社授权不得商用。
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