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本发明为了能够通过湿蚀刻确实地除去包含金属及硅的化合物，例如含有金属铪的硅酸盐（１０１ａ），在将硅酸盐（１０１ａ）氧化后，对被氧化的硅酸盐（１０１ａ）进行湿蚀刻。...
该专利属于松下电器产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。

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