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一种提高蚀刻因数的蚀刻方法及使用该方法的电路装置的制造方法。本发明的蚀刻方法具有如下特征，首先，在作为被蚀刻材料的导电箔（１１）表面涂敷抗蚀剂（１０）。然后，通过使用曝光掩模１４有选择地使抗蚀剂（１０）曝光，从而有选择地使抗蚀剂变质。由此，...
该专利属于三洋电机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三洋电机株式会社授权不得商用。

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