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中芯国际集成电路制造上海有限公司
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铜电镀薄膜方法技术
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文档序号:3204335
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一种铜电镀薄膜方法,包括:先在阻挡层上沉积铜籽晶层,然后再在该铜籽晶层上以电化学电镀方法生长出电镀铜薄膜层;其特征是:该方法在上述两步骤之间还包括对铜籽晶层进行表面处理的步骤。...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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