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形成金属单层膜、配线及制造场效应晶体管的方法技术
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文档序号:3204234
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本发明提供一种制造场效应晶体管的方法,该晶体管具有牢固地粘附于栅绝缘膜的金属单层膜的源/漏电极。该方法由以下步骤组成:在支承体上形成栅极,在支承体和栅极上形成栅绝缘膜,用硅烷偶合剂对栅绝缘膜表面进行处理,在已用硅烷偶合剂处理过的栅绝缘膜13...
该专利属于索尼株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过索尼株式会社授权不得商用。
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