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一种用于通过光学手段减少集成电路中的电荷累积的过程包括将所述集成电路或者其中部分暴露在宽带辐射源下。该过程有效地减少了在制造集成电路中产生的电荷累积。...
该专利属于艾克塞利斯技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯技术公司授权不得商用。

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