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公开了一种把掩模（ＭＡ）图案的图像曝光到涂有抗蚀剂层的衬底（Ｗ）的方法，其中，在开始曝光后及曝光完成前，控制器（１００）通过在曝光时改变衬底承载台位置（ＷＴ）而在抗蚀剂层的图像中引入受控数量的对比度损失。对比度损失影响光刻投影设备分辨率的间...
该专利属于ＡＳＭＬ荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ＡＳＭＬ荷兰有限公司授权不得商用。

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