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一种制作晶体硅层的方法，包括在具有第一区域和位于第一区域外围的第二区域的基板上形成非晶硅半导体层；通过把激光束照射到第二区域的半导体层上而形成至少一个凹形对准键；使用该至少一个对准键对第一区域的半导体层进行结晶处理。...
该专利属于LG.菲利浦LCD株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG.菲利浦LCD株式会社授权不得商用。

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