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利用从原位传感器收集的数据，通过半导体处理设备控制晶片的性能。首先，在按照晶片制法参数执行的工艺中，通过原位传感器收集与晶片性能有关的数据。随后，通过修改该制法参数来调整工艺，该制法参数按照由与该晶片性能有关的该原位传感器收集的该数据和由用...
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