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本实用新型公开了一种掩膜板，以改善现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时，存在蒸镀位置不准确，容易产生混色的问题。所述掩膜板，用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡，所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区，其中，所述掩...
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