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高强室温自修复聚脲涂层材料及制备方法技术
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文档序号:32033750
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本发明公开了高强室温自修复聚脲涂层材料,其分子结构包括半硫缩醛基团和脲基团;制备高强室温自修复聚脲涂层材料的方法包括:步骤一:将官能度大于等于2的巯基化合物和官能度大于等于2的醛基化合物按一定比例在溶剂中搅拌至粘度不再增加,得到醛基封端的聚...
该专利属于四川大学所有,仅供学习研究参考,未经过四川大学授权不得商用。
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