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本发明涉及静电吸附装置、等离子体处理装置及等离子体处理方法。可不引起异常放电或绝缘破坏地稳定吸附保持绝缘体的基板。其载置玻璃基板（Ｇ）的载置台（１０）是在基底部件（１２）之上设置了例如由铝构成的矩形块状基座（１４）和包围此基座（１４）的由绝...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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