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本发明是关于一种臭氧处理装置，是对半导体基板或液晶基板等的基板表面吹送臭氧气体，来进行氧化膜的形成或改性、抗蚀膜的去除等处理。臭氧处理装置１，是由用以载置基板Ｋ的载置台２０，用以将载置台２０上的基板Ｋ加热的加热装置，与载置台２０上的基板Ｋ呈...
该专利属于住友精密工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友精密工业株式会社授权不得商用。

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