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一种离子布植制程的监控方法，是用于监控低能量杂质的布植，其中在一测试芯片上用低能量杂质离子布植制程形成一离子布植层，此方法包含下列步骤：　　　　使用低温制程在该离子布植层上覆盖一层遮蔽层；　　　　高温快速回火处理；及　　　　测量组件参数。...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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