温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请提供了一种场效应管、其制备方法及电子电路，在制备时，在衬底上依次形成沟道层、控制栅极层、金属栅极层、硬质掩膜层和光刻胶层后，形成第一光刻胶掩模图案，对硬质掩膜层进行干法刻蚀，形成第一硬质掩膜图案，对第一光刻胶掩膜图案进行尺寸收缩处理，...
该专利属于华为技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华为技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。