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本申请提供了一种纳米晶、制备方法及组合物、光学膜、发光器件。该纳米晶包括初始纳米晶和包覆于初始纳米晶外的牺牲壳层，牺牲壳层包括以初始纳米晶为中心向外依次包覆的n个牺牲子层，n个牺牲子层的材料相同或不同；如果对所述纳米晶进行刻蚀，至少部分牺牲...
该专利属于纳晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳晶科技股份有限公司授权不得商用。

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