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本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法及存储介质，在一边使基板进行公转一边进行处理的装置中能够对基板载置面周围的结构进行清洁。基板处理装置构成为具有：处理室，其对基板进行处理；基板载置板，其具备非基板载置面和多个基板载置面；旋转部...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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