温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底，包括用于形成目标图形的目标层，基底包括图形稀疏区和图形密集区；在目标层上形成分立的核心层；形成保形覆盖核心层和目标层的侧墙材料层；在图形稀疏区中，在相邻核心层之间的侧墙材料层上形成牺牲层；刻蚀位于核...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。