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本发明实施例提供一种真空装置，涉及半导体技术领域，可避免密封圈被腐蚀或沾污，甚至出现变形或裂缝等问题。该真空装置包括腔体、密封盖、密封圈、以及保护环；密封圈和保护环设置于真空装置的内侧壁。保护环覆盖密封圈的内侧面。密封圈用于在腔体与密封盖处...
该专利属于真芯（北京）半导体有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过真芯（北京）半导体有限责任公司授权不得商用。

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