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半导体发光器件及制造方法、集成半导体发光设备及制造方法、图像显示设备及制造方法、技术
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文档序号:3202523
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在蓝宝石衬底上形成n型GaN层和在其上形成六角刻蚀掩膜。通过RIE方法,利用刻蚀掩膜将n型GaN层刻蚀一定深度,形成上表面是C面的六棱柱部分。在刻蚀掩膜被除去之后,以这种方式在衬底的整个表面上依次长出活性层和p型GaN层,以便覆盖六棱柱部分...
该专利属于索尼株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过索尼株式会社授权不得商用。
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