专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
株式会社东芝
>
设计图形校正方法、掩模制造方法及半导体器件制造方法技术
>技术资料下载
下载设计图形校正方法、掩模制造方法及半导体器件制造方法的技术资料
文档序号:3202397
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种设计图形的校正方法,它是考虑了在半导体集成电路各层之间加工余量的校正设计图形的方法,此方法包括下述步骤:基于第一层设计图形计算对应于第一层加工图形形状的第一图形形状;基于第二层设计图形计算对应于第二层加工图形形状的第二图形形状;通过对上...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。