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一种半导体热工艺的水冷装置，其特征在于连接于进行热工艺反应的两个腔室，该水冷装置包括：　　　　两条供应输送管，分别连接至所述两个腔室，以分别提供冷却水给这两个腔室使用；　　　　两条回收输送管，分别连接至所述两个腔室，以分别回收输送至这两个腔...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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