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埋入式沟槽电容器及其制造方法技术
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文档序号:3202296
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一种埋入式沟槽电容器的领氧化层的制造方法,包括: 提供一基底,在该基底中形成有一沟槽; 在该沟槽下部的表面形成一第一掩模层; 进行一自匮乏原子层沉积制作工艺,以便在该第一掩模层以外的部分该沟槽表面形成一第二掩模层,该第二掩...
该专利属于茂德科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过茂德科技股份有限公司授权不得商用。
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