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本发明提供一种抗蚀图形的形成方法，其特征在于，具有下述工序：（Ａ）在基体（１０）上形成光致抗蚀剂被膜的工序、（Ｂ）经过含有选择性曝光的光刻工序而使上述光致抗蚀剂被膜图形化为具有厚壁部（ｒ１）和薄壁部（ｒ２）的图形形状的工序、以及（Ｃ）在进行...
该专利属于东京应化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京应化工业株式会社授权不得商用。

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