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一种各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备方法，涉及磁电阻薄膜的制备方法，特别是涉及各向异性磁电阻坡莫合金薄膜的制备。本方法是采用磁控溅射方法，通过选取不同成分的Ｎｉ↓［ｘ］Ｆｅ↓［１－ｘ］合金靶，ｘ为７８～８５，以及溅射前通入镀膜室９９．９９％...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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