温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供布线金属层的形成方法、选择性形成金属的方法、选择性形成金属的装置以及用以在积层板上的选择区域形成布线金属层的基板装置，包括有：在配置有积层板（１０３）的反应室（１０１）内导入有机金属分子气体，而在所述积层板上形成由所述有机金属分子...
该专利属于株式会社液晶先端技术开发中心所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社液晶先端技术开发中心授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。