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一种用于浸液光刻的装置，具有能够与在液体环境中的半导体晶片的水平运动同步地相对运动的透镜，在该液体环境中透镜装置和半导体晶片的同步运动有利于降低与液体环境相关联的湍流和气泡。所述透镜和半导体晶片的相对运动当扫描处理发生时实质上是相同的，这导...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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