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制备多晶硅膜层的激光退火装置及形成多晶硅膜层的方法制造方法及图纸
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文档序号:3201722
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本发明提出一种用以制备多晶系膜层的激光退火装置,可以避免基板边缘区域的非晶系层在经激光退火时受到损害。此种激光退火装置包括一遮蔽结构,当对非晶硅系膜层进行激光退火以形成多晶系膜层时,遮蔽结构会抵挡基板边缘区域的激光,以避免激光完全照射到基板...
该专利属于统宝光电股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过统宝光电股份有限公司授权不得商用。
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