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RRAM存储器单元电极及其制造方法技术
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文档序号:3201623
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在其中具有工作结而其上具有金属栓的硅衬底上形成的RRAM存储单元,包括第一抗氧化层、第一难熔金属层、CMR层、第二难熔金属层以及第二抗氧化层。制造多层电极RRAM存储单元的方法包括准备硅衬底;在衬底上形成从N+结和P+结组成的结组中选出的结...
该专利属于夏普株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过夏普株式会社授权不得商用。
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