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本发明提供一种用于蚀刻衬底的改进方法，该方法减少了柱状体的形成。根据该方法，减少了工艺中使用的蚀刻气体的滞留时间，并且增加了用于离解蚀刻气体的感应耦合等离子体源的功率。在蚀刻工艺期间提供低偏置的ＲＦ电压。在蚀刻工艺期间使用的不同偏置电平之间...
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