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一方面，提供一种设置和重新编程可编程器件状态的设备。一方面，提供一种方法，使得通过暴露触点（１７０）的电介质（２１０）形成开口（２２０），所述触点（１７０）形成在衬底（１００）上。使用原子层沉积（ＡＬＤ），在电介质（２１０）的壁上共形地沉积...
该专利属于奥翁尼克斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过奥翁尼克斯公司授权不得商用。

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