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耦合率增大的浮栅存储单元制造技术
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文档序号:3201112
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介绍了一种增大浮栅非易失性半导体器件的控制栅(18)和浮栅(14)之间的耦合率的方法。在根据本发明的叠层栅浮栅晶体管中,导电间隔层(24)用在叠层的两侧。优选借助导电层(34)将导电间隔层(24)电流性连接到控制栅(18),而借助绝缘层(2...
该专利属于NXP股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过NXP股份有限公司授权不得商用。
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