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本发明公开了一种可供选择的蚀刻化学组成，该化学组成可以提供固有地各向异性蚀刻，并且在不需要高分子聚合物沉积作用的条件下消除刻痕形成。蚀刻在高于近似１６０℃的衬底温度下用ＨＢｒ和Ｎ↓［２］的组合实施，以提供基本上无刻痕和无碳聚合物的各向异性蚀...
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