温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种基板处理装置，其特征在于，具有：形成处理空间的处理容器；保持所述处理空间中的被处理基板的转动自由的保持台；所述保持台的转动机构；在所述处理容器上，相对所述保持台在第一侧的端部设置的氮自由基形成部，其通过高 ...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。