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本发明涉及适用于采用１９３ｎｍ　　ＡｒＦ辐射线的亚微平版印刷方法中的半导体器件的抗反射涂料用聚合物，抗反射涂料组合物，及其制备方法。所述聚合物含有在１９３ｎｍ波长处具有高吸收的苯基侧基。当本发明的抗反射涂料用于形成超细图案时，消除了在晶片下...
该专利属于现代电子产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过现代电子产业株式会社授权不得商用。

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