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一种电子束曝光方法，是以连续的速度使被曝光物和电子束照射点相互相对地移动的电子束曝光方法，其特征在于，　　　　通过使在所述被曝光物上形成所述电子束照射点的电子光学系统的透过率发生变化，使所述被曝光物以多个电子束照射强度曝光。...
该专利属于松下电器产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。

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