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干蚀刻方法技术
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文档序号:3196768
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一种干蚀刻方法,能够把被加工层加工成微细图案且周缘部有棱角的形状,用这种干蚀刻方法沿相当于蚀刻图案的轮廓的第一掩膜层(20)的周缘部形成向磁性薄膜层(被加工层)(18)的对面侧突出的突部(21)。...
该专利属于TDK股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过TDK股份有限公司授权不得商用。
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