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一种具有温度受控的基片支架表面的基片支架，包括：液体供应系统，该液体供应系统具有至少一个液体源和多个液流通道。该液体供应系统可以包括控制液体分配到各液流通道的阀门。该液体供应系统还可以包括控制其运行的控制器。液体可以以各种方式通过液流通道进...
该专利属于兰姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过兰姆研究公司授权不得商用。

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