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一种薄膜晶体管的制作方法，通过在源极与漏极的离子掺杂过程中，加入氮气的注入以抑制其它掺质浓度的扩散速率，使低温多晶硅在退火（Ａｎｎｅａｌｉｎｇ）之后自动形成浅接面的轻掺杂漏极结构（Ｌｉｇｈｔｌｙ　　Ｄｏｐｅｄ　　Ｄｒａｉｎ，ＬＤＤ）。氮气的...
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