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光刻装置以及器件制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3195188
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公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置,该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口,以及设置成可去除至少部分液体的出口,该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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