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绝缘层覆硅(SOI)晶片及其制造方法技术
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文档序号:3194908
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本发明提供一种SOI晶片,该SOI晶片为至少具备SOI层的SOI晶片,其特征为:该SOI层的面方位的偏角是由{110}只往<100>方向,而且,偏角角度在5分以上2度以下;及提供一种SOI晶片的制造方法,至少贴合基底晶片和由硅单结晶所构成的...
该专利属于信越半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过信越半导体股份有限公司授权不得商用。
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