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等离子体处理装置和等离子体处理方法制造方法及图纸
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文档序号:3194412
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本发明提供一种等离子体发生装置,可以抑制由产生等离子体引起的对被处理体的损坏,进行适当的等离子体处理。该等离子体处理装置至少包含:对被处理体进行等离子体处理的等离子体处理室;将所述被处理体配置在所述等离子体处理室内的被处理体保持机构;和在该...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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