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本发明的光罩设计方法首先计算一光罩基板的可布局图案数。之后，分别计算一第一光罩与一第二光罩的成本。然后分别计算使用该第一光罩及该第二光罩制备一预定片数的晶圆的整体制造成本，并选取整体制造成本较低者来设计该光罩基板的图案数。较佳地，该第一光罩...
该专利属于卓越光掩膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过卓越光掩膜科技有限公司授权不得商用。

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